ODS替代 HCFC 141B替代 一氟二替代

Enasolv 365作为新型的烃（HFC）被开发成功。在多种应用上替代CFC、PFC、HCFC等类型的ODS清洗剂。他的选择溶解性、物理性质、形成共沸物能力以及与其他HFC、HFE、nPB清洗剂形成配方的能力使HFC 365mfc成为在半导体、电子工业、光学元件、精密部件、医疗器械以及溶媒、载体等方向上理想的清洗溶液。

产品特性

Ø       溶解力：可以用于多种原料，具有选择性的溶解性。

Ø       可靠性：对各种材料有很高的适应性，可用于各种用途。

Ø       速干性：优良的干燥性，不易出现斑点等，保持良好的加工质量。

Ø       节能性：较低的沸点，较低的汽化热。

Ø       安全性：毒性比HCFC141b低。较高的引燃能量。

Ø       再生性：通过设备内的蒸馏再生大幅度减少了工业废物量。

Ø       环保性：ODP为零，GWP为HFC4310的56﹪。

Ø       渗透性：低的表面张力，以及高的流动性。

Ø       匹配性：可与HFC4310、HFE7100、nPB、HCFC225等复配形成配方使用。 

清洁程序

建议使用超声波清洗设备以提高清洁效率、经济效益及挥发控制。

HFC365AZ的清洗程序与3、b的清洗相似。

程序包括将被清洗物品浸入沸腾的溶剂，冲洗或用冷溶剂喷淋，并在溶剂蒸汽中干燥，完成清洗。

稳定性

比HCFC141b的热稳定性、化学稳定性都好。

但不能同强碱性化合物、碱性金属接触。

另外，注意其在高温、高压状态下同铅、铝、以及他们的合金在有空气存在状态下有发生有害反应的可能。

 杂质浓度控制

为了保持溶液的清洁效力，将清洗槽内的杂质保持在较低的浓度，如20％，是非常重要的。此浓度取决于所需的清洁程度。杂质可通过测量溶剂的比重和沸点来监测。初次使用Enasolv 365AZ时，建议每周监测清洗槽，以确保杂质在控制范围内。然而，由于不同的客户使用情况不同，可根据各自的需要缩短或延长监测频率。

如同在任何溶剂系统中一样，杂质都会累积。因此也可以用PH值来反映清洗系统受污染情况。